產(chǎn)品規(guī)格 （CAT#: LM1002）
Y2HGold Competent Cell: 100μl/支 保存： -80℃（3個月）
pGADT7 (control vector, 10 ng/μl) 10μl 保存：-80℃（12個月）
Carrier DNA (10 μg/μl) 100μl 保存：-20℃（12個月）
PEG/LiAC: 5ml 保存： 4℃（12個月）
Y2HGold感受態(tài)細胞基因型
MATa, trp1-901, leu2-3, 112, ura3-52, his3-200, gal4Δ, gal80Δ, LYS2::GAL1UAS-Gal1TATA-His3, GAL2UAS-Gal2TATA-Ade2 URA3::MEL1UAS-Mel1TATA AUR1-C MEL1
Y2HGold感受態(tài)細胞產(chǎn)品說明
Y2HGold菌株是Clontech公司開發(fā)的GAL4系統(tǒng)酵母雙雜實驗用菌株，MATa型，可直接轉化質?；蚺cMATα型酵母菌株Y187通過mating操作進行蛋白互作驗證或篩庫試驗。Transformation marker為：trp1，leu2，報告基因為：AbAr，HIS3，ADE2，MEL1。Y2HGold-GAL4 酵母雙雜系統(tǒng)需要兩種質粒配套使用：pGBKT7和pGADT7。質粒pGBKT7的篩選標志為TRP1，用于表達DNA-BD (來自酵母轉錄因子GAL4N端1~174位氨基酸)與目標蛋白 (Bait)的融合蛋白；質粒pGADT7 的篩選標志為LEU，用于表達AD(GAL4 C端768 ~881 位氨基酸)與目標蛋白 (Prey)的融合蛋白。GAL4 系統(tǒng)原理：一個完整的酵母轉錄因子GAL4可分為功能上相互獨立的兩個結構域：位于N端1~174位氨基酸區(qū)段的DNA結合域 (DNA-BD)和位于C端768~881 位氨基酸區(qū)段的轉錄激活域 (AD)。DNA-BD能夠識別GAL4-responsive gene的上游激活序列UAS，并與之結合。而AD可以啟動UAS下游的基因進行轉錄。BD和AD單獨存在不能激活轉錄，但當二者接近時，則呈現(xiàn)完整的GAL4活性，使含有UAS的啟動子下游基因轉錄表達。正常條件下，BD不與AD結合，將要檢測的蛋白質分別與BD和AD融合，形成 bait融合蛋白 (bait -BD)和 prey融合蛋白 (prey-AD)，如果 bait和 prey發(fā)生相互作用，就會促使 BD和 AD的相互接近，形成完整的GAL4，從而激活報告基因的轉錄。Y2HGold有四個報告基因：AbAr，HIS3，ADE2，MEL1，分別由三種不同的啟動子 (G1，G2，M1)啟動，這三種啟動子只有GAL4識別的17 bp核心區(qū)相同，其余部分均不同，大大降低了酵母雙雜假陽性發(fā)生的概率。此外新報告基因AbAr與以前的營養(yǎng)缺陷報告基因相比具有更低背景的優(yōu)點，也可以降低酵母雙雜假陽性發(fā)生的概率。Y2HGold感受態(tài)細胞經(jīng)特殊工藝制作，-80℃可保存三個月，pGADT7質粒檢測轉化效率>104cfu/μg DNA。
Y2HGold感受態(tài)細胞操作方法
1. 取100 μl冰上融化的Y2HGold感受態(tài)細胞，依次加入預冷的目的質粒2-5 μg，Carrier DNA (95-100度5 min,快速冰浴，重復一次) 10 μl，PEG/LiAc 500μl并吸打幾次混勻，30度水浴30 min (15 min時翻轉6-8次混勻)。
2. 將管放42℃水浴15 min (7.5 min時翻轉6-8次混勻)。
3. 5000 rpm離心 40 s棄上清，ddH2O 400 μl 重懸，離心 30s棄上清。
4. ddH2O 50 μl重懸，涂板，29℃培養(yǎng)48-96 h。
Y2HGold感受態(tài)細胞注意事項
1. 感受態(tài)細胞在冰上融化。
2. 轉化高濃度的質?？上鄳獪p少最終用于涂板的菌量。
3. 同時轉化2-3種質粒時可增加質粒的用量。
4. Y2HGold酵母菌株對高溫敏感，最適生長溫度為27-30℃；高于31℃，生長速度和轉化效率呈指數(shù)下降。
5. 菌落變粉不是污染，是酵母細胞生長中一個常見現(xiàn)象。當細胞在平板培養(yǎng)幾天后，平板上的Adenine被酵母消耗完畢，酵母試圖通過自身代謝途徑合成Adenine以供利用，然而，有些菌株的ADE2基因被破壞，Adenine合成途徑受阻；又由于其ADE4,5,6,7,8基因均正常，所以造成中間產(chǎn)物P-ribosylamino imidazole (AIR) 在細胞中積累而使菌落變?yōu)榉奂t色。
6. 酵母在缺陷培養(yǎng)基中生長速度比YPDA培養(yǎng)基慢，培養(yǎng)基中缺陷成分越多，生長越慢，以轉化涂板為例：涂YPDA平板29℃，48 h培養(yǎng)可見直徑1 mm克?。煌縎D單缺平板29℃，48-60 h培養(yǎng)可見直徑1 mm克隆，涂SD雙缺平板29℃，60-80 h培養(yǎng)可見直徑1 mm克隆，涂SD三缺或四缺平板平板29℃，80-90 h培養(yǎng)可見直徑1 mm克隆。
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