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四(二甲胺基)鉿,TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV)
  • 四(二甲胺基)鉿,TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV)

四(二甲胺基)鉿-電子級ALD/CVD前驅(qū)體源

價格 詢價
包裝 25g 50g 100g
最小起訂量 25g
發(fā)貨地 江蘇
更新日期 2024-08-14

產(chǎn)品詳情

中文名稱:四(二甲胺基)鉿英文名稱:TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV)
CAS:19782-68-4品牌: 龍揚生化
產(chǎn)地: 江蘇保存條件: 常溫
純度規(guī)格: 99.9999%產(chǎn)品類別: ALD/CVD電子級前驅(qū)體源
別名: TDMAH分子式: C8H24N4Hf
2024-08-14 四(二甲胺基)鉿 TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV) 25g/RMB;50g/RMB;100g/RMB 龍揚生化 江蘇 常溫 99.9999% ALD/CVD電子級前驅(qū)體源

 對于柵介質(zhì)層,由于其厚度一般在10nm以下,ALD技術(shù)成為制備柵介質(zhì)層的首選,已經(jīng)用于Intel 45nm節(jié)點的MOS管的制備過程中。相較于CVD、PVD,ALD可以原子級厚度水平控制膜層的沉積,存儲介質(zhì)可通過ALD或CVD技術(shù)制成,而ALD具有優(yōu)越的階梯覆蓋能力,在高深寬比的DRAM中其應用將不斷增加。

      本公司提供和開發(fā)CVD/ALD所需的前驅(qū)體源,包括可用于沉積高k柵介質(zhì)層HfO?、用于存儲介質(zhì)層的ZrO?、TiO?、Ta?O?等材料的前驅(qū)體。以下為本公司在售的部分前驅(qū)體材料:


介質(zhì)層前驅(qū)體名稱縮寫
HfO?Hf[N(CH?(C?H?)]?四(甲乙氨基)鉿TEMAH
Hf[N(C?H?)?]?四(二乙氨基)鉿TDEAH
Hf[N(CH?)?]?四(二甲氨基)鉿TDMAH
HfCl?四氯化鉿-
ZrO?Zr[N(CH?)?]?四(二甲氨基)鋯TDMAZ
Zr[N(C?H?)?]?四(二乙氨基)鋯TDEAZ
Hf[N(CH?)(C?H?)]?四(甲乙氨基)鋯TEMAZ
TiO?TiCl?四氯化鈦-
Ti[N(CH?)?]?四(二甲氨基)鈦TDMAT
Ta?O?Ta[N(CH?)?]?五(二甲氨基)鉭PDMAT



關鍵字: 四(二甲胺基)鉿;TDMAH;19782-68-4;TETRAKIS(DIMETHYLAMI;ALD/CVD前驅(qū)體源;

公司簡介

蘇州龍揚生化科技有限公司成立于 2020年 5 月,坐落于江蘇省張家港錦豐鎮(zhèn),是目前國內(nèi)專業(yè)從事 ALD/CVD 材料研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的高科技企業(yè)。公司由高純電子化學品領域的資深專家所創(chuàng)建,具有豐富的前驅(qū)體研發(fā)和生產(chǎn)管理經(jīng)驗。公司主要經(jīng)營原子層淀積(ALD)及化學氣相淀積(CVD)前驅(qū)體源材料、前驅(qū)體包裝容器等,為國內(nèi)外用戶提供高純度多種類的 ALD/CVD 源材料,以及優(yōu)質(zhì)的源瓶配套服務。 目前,相關產(chǎn)品已在國內(nèi)科研院所和企業(yè)單位批量使用,產(chǎn)品質(zhì)量達到國際先進水平。同時與國內(nèi)外ALD/CVD設備公司以及知名大學與研究所建立了長期的合作關系,時刻跟蹤行業(yè)發(fā)展動態(tài),為中國集成電路相關行業(yè)發(fā)展夯實基礎。
成立日期 2021-05-08 (4年) 注冊資本 500萬
員工人數(shù) 1-10人 年營業(yè)額 ¥ 1000萬-5000萬
主營行業(yè) 納米材料,有機光電,微納米電子技術(shù),合成材料 經(jīng)營模式 貿(mào)易,工廠,試劑,定制,服務
  • 蘇州龍揚生化科技有限公司
非會員
  • 公司成立:4年
  • 注冊資本:500萬
  • 企業(yè)類型:制造商
  • 主營產(chǎn)品:ALD/CVD電子級前驅(qū)體源
  • 公司地址:張家港市錦豐鎮(zhèn)興業(yè)路2號
詢盤

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