產(chǎn)品描述
Zeta-300 光學(xué)輪廓儀是一款非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。Zeta-300 以 Zeta-20 3D 輪廓儀的功能為基礎(chǔ)，具有額外的防震選項(xiàng)和靈活的配置，可處理更大的樣品。該 3D 光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)由已獲得專利的 ZDot 技術(shù)及多模式光學(xué)組件提供支持，可支持各種樣品測(cè)量：透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙表面，以及從納米到厘米范圍的臺(tái)階高度。
Zeta-300 光學(xué)輪廓儀將六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)集成到一個(gè)可靈活配置且易于使用的系統(tǒng)中。ZDot測(cè)量模式同時(shí)收集高分辨率的3D掃描信息和樣品表面真彩色圖像。其他3D測(cè)量技術(shù)包括白光干涉測(cè)量法、諾馬斯基光干涉對(duì)比顯微法和剪切干涉測(cè)量法，膜厚測(cè)量包含使用ZDot模式測(cè)量和光譜反射的測(cè)量方法。Zeta-300 也是一款高端顯微鏡，可用于抽樣檢查或缺陷自動(dòng)檢測(cè)。Zeta-300 3D 輪廓儀通過提供全面的臺(tái)階高度、粗糙度及薄膜厚度測(cè)量以及缺陷檢測(cè)功能，來支持研發(fā) (R&D) 和生產(chǎn)環(huán)境。
Zeta-300 光學(xué)輪廓儀特征優(yōu)勢(shì)
配合ZDot及多模式光學(xué)組件，光學(xué)輪廓儀可以容易地實(shí)現(xiàn)各種各樣的應(yīng)用
用于抽樣檢查和缺陷檢測(cè)的高質(zhì)量顯微鏡
ZDot：同時(shí)收集高分辨率的3D掃描掃描信息和樣品表面真彩色圖像
ZXI：采用z方向高分辨率的廣域測(cè)量白光干涉儀
ZIC：圖像對(duì)比度增強(qiáng)，可實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)粗糙度表面的定量分析
ZSI：z方向高分辨率
圖像的剪切干涉測(cè)量法
ZFT：通過集成式寬頻反射測(cè)量法測(cè)量薄膜厚度和反射率
AOI：自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)，可量化樣品缺陷
生產(chǎn)能力：具有多點(diǎn)量測(cè)和圖形識(shí)別功能的全自動(dòng)測(cè)量
Zeta-300 光學(xué)輪廓儀應(yīng)用功能
臺(tái)階高度：從納米級(jí)到毫米級(jí)的3D 臺(tái)階高度
表面：光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波紋度測(cè)試
翹曲：2D或3D翹曲
應(yīng)力：2D或3D薄膜應(yīng)力
薄膜厚度：透明薄膜厚度由 30nm 至 100μm 不等
缺陷檢測(cè)：捕獲大于 1μm 的缺陷
缺陷表征：KLARF 文件可用于尋找缺陷，以確定劃痕缺陷位置，測(cè)量缺陷3D表面形貌
Zeta-300 光學(xué)輪廓儀應(yīng)用領(lǐng)域
發(fā)光二極管（LED）
發(fā)光二極管和 PSS（圖形化的藍(lán)寶石襯底）
半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體
半導(dǎo)體 WLCSP（晶圓級(jí)芯片封裝）
半導(dǎo)體 FOWLP（扇出晶圓級(jí)封裝）
PCB（印刷電路板）和柔性印刷電路板
MEMS：微機(jī)電系統(tǒng)
醫(yī)療器械和微流體器件
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
大學(xué)、研究實(shí)驗(yàn)室和研究所
Zeta-300 光學(xué)輪廓儀應(yīng)用案例
肖特玻璃-表面粗糙度
可用來測(cè)試玻璃等透明表面及不透明表面的形貌和表面粗糙度
太陽能電池–不同反射率表面形貌測(cè)量
輕松獲得復(fù)雜差異化反射率樣品的表面形貌
MEMS器件–臺(tái)階高度和粗糙度
小尺寸樣品nm級(jí)臺(tái)階精度，大尺寸樣品的亞微米臺(tái)階精度
鏡頭-完整的表面輪廓
圖像拼接功能，可獲得大面積樣品的完整表面輪廓
高分子薄膜-膜厚測(cè)量
可用于PI和PR薄膜的厚度測(cè)量，并可生成整片晶圓上的膜厚mapping
藍(lán)寶石-圖案化晶片表面缺陷
可對(duì)特定缺陷進(jìn)行三維輪廓掃描并進(jìn)行相關(guān)測(cè)量，并對(duì)晶圓表面缺陷按尺寸、亮度、長(zhǎng)寬比等進(jìn)行分布統(tǒng)計(jì)并生成mapping
關(guān)鍵字： 光學(xué)輪廓儀 ;高精度光學(xué)輪廓儀;3D光學(xué)輪廓儀;白光干涉儀;三維光學(xué)輪廓儀;
那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，臺(tái)灣和澳門)的客戶，同時(shí)我們?cè)谥袊箨懺O(shè)有專門的服務(wù)辦公室，提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。
那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國際領(lǐng)先的缺陷檢測(cè)和高速鍍層測(cè)量的計(jì)量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。
自2001年Nano-Master開始設(shè)計(jì)開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長(zhǎng)的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全球薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。
我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)