NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的設計經過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產的應用要求。 NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設定的RMS電流下，或者在閉環(huán)的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節(jié)RMS電流以維持恒定的沉積速度。
NTE-3500蒸發(fā)系統(tǒng)是一個緊湊型系統(tǒng)，跟我們的濺射系統(tǒng)共享一個共同的平臺；比如：櫥柜，腔體，真空系統(tǒng)，計算機控制架構等方面都是一樣的。*的區(qū)別是一個使用磁控管，另一個使用加熱坩堝. 因此，在我們?yōu)R射系統(tǒng)上的許多技術同樣適用到我們的熱蒸發(fā)系統(tǒng)中，比如：樣品臺的加熱，旋轉，偏斜；涂覆前的等離子清洗，膜厚監(jiān)測，序列或同時操作多源；鐘罩、鋁或不銹鋼腔體；預真空鎖以及自動裝片/取片系統(tǒng)等。
NTE-3500跟NSC-3500很像, 除了樣片臺是在頂部并且樣片是面朝下固定。因為有許多的共同點，我們可以提供NTS系列的系統(tǒng)(NTS-3000, NTS-3500，NTS-4000)，具有濺射和蒸發(fā)兩種能力。通過計算機控制系統(tǒng)，我們可以在同一套系統(tǒng)上提供濺射和蒸發(fā)能力，這樣可以充分利用濺射和蒸發(fā)技術，而無須中斷真空。
Nano-Master的蒸發(fā)系統(tǒng)的另一大*優(yōu)勢是持續(xù)性地控制加熱器電流，而不是震蕩式控制加熱器。系統(tǒng)裝配固態(tài)電流控制電路，這點跟許多系統(tǒng)采用的自藕變壓器不同。在該系統(tǒng)中，電流或者RMS值的持續(xù)時間被控制。用戶可以選擇一個設定值，它實際上是設定交流電半周期的部分，會出現跟鎢加熱器電線的交叉。這樣，系統(tǒng)可以實現精確快速的電流控制，這使得閉環(huán)溫度控制就可以實現。此外，電流控制以及溫度控制，可以滿足蒸發(fā)的苛刻要求，無論是對有機材料還是對金屬。我們測量坩堝TB的RMS電壓，RMS電流，和溫度，并通過熱電偶TC跟坩堝底部接觸的方式測量溫度?？折釄宓募訜釋嶒灲Y果如下圖所示，這些加熱實驗結果是在208V線電壓下進行的。電流和電壓(沒有顯示)通過RMS儀表測量。
通過以上的溫度與電流的關系，我們可以設定并控制電流以達到坩堝內想要的溫度，溫度可以通過熱電偶來測量。材料防止在坩堝中熱損失和加熱時間的常量將會發(fā)生變化，然而坩堝內的溫度和熱電偶的測量值之間的關系將不會變化。因此，我們的技術可以實現坩堝內的溫度不依賴于大部分放入的材料，甚至不受線電壓值的影響。
NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)產品特點：
· 至大可支持6"(150mm)的晶圓片
· 自動上下載片，帶預真空鎖
· 沉積速度可控
· 旋轉的樣品臺
· 雙坩堝
· 2KVA SRC控制電源
· 晶振式膜厚監(jiān)控儀
· 通過LabView軟件實現PC計算機控制
NTE-3500（A）相似產品型號：
· NTE-4000 基于PC計算機全自動控制的獨立系統(tǒng)
· NTE-3500 基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立系統(tǒng)
· NTE-3000 基于PC計算機全自動控制的雙蒸發(fā)源臺式系統(tǒng)
· NTE-1000 計算機控制的單蒸發(fā)源臺式系統(tǒng)
關鍵字： 全自動熱蒸鍍;全自動熱蒸發(fā)鍍膜設備;熱蒸鍍系統(tǒng);熱蒸發(fā)臺;熱蒸發(fā)鍍膜設備;
那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，臺灣和澳門)的客戶，同時我們在中國大陸設有專門的服務辦公室，提供銷售和售后技術服務。
那諾-馬斯特中國的主要產品包括薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國際領先的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。
自2001年Nano-Master開始設計開發(fā)薄膜應用方面的設備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應用領域涵蓋了半導體、MEMS、光電子學、納米技術和光伏等。我們的設備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應濺、共濺 、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內Nano-Master已經發(fā)展成為全球薄膜設備的供應商，已售出的幾百套設備分布于20多個不同國家的大學、研發(fā)中心和國家重點實驗室。
我們聘用技術熟練并具有良好教育背景的設計和制造工程師、應用工程師、服務