氧化錫/銦錫蝕刻劑TE100
氧化銦錫膜在制備時(shí),先沉積一層銦—錫膜。然后將銦-—錫膜用氧等離子體氧化,或在較高溫度下在一個(gè)氧化氛中氧化。當(dāng)進(jìn)行蝕刻時(shí),銦以三價(jià)水絡(luò)合物[In(H2O)6]3+的形式溶解,而錫則生成[SnCl6]2-陰離子。
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