三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。
三氟化氮（NF3）的主要應用
IC方面：由于作為半導體工業(yè)中氣體清洗劑的全氟烴(PFC)對環(huán)境有害,近年來有逐漸被三氟化氮(NF3)取代之勢。了解更多電子特氣請關(guān)注微信gasgroup使用NF3作為化學蒸氣沉積(CVD)箱清洗劑,與全氟烴相比,可減少污染物排放量約90%,且可顯著提高清洗速度,從而可提高清洗設備能力約30%。
LCD方面：NF3還可用作蝕刻劑,也用于液晶顯示器(LCD)的加工。為此,近年來NF3需求量急劇增長,90年代中期全球年用量不到46t, 2013年為5100噸。為滿足日益增長的需求,世界各生產(chǎn)商均在積極擴大生產(chǎn)能力,預計每年將繼續(xù)增長約15%。但是三氟化氮(NF3)的GWP值高達10 800,今后的發(fā)展可能會為此受到一定的限制。
太陽能電池：NF3作為蝕刻和清洗氣體也在太陽能電池制造行業(yè)廣泛應用。
關(guān)鍵字： 三氟化氮;NF3;7783-54-2;
中船重工（邯鄲）派瑞特種氣體有限公司隸屬于中國船舶集團公司第七一八研究所，從事高純特種電子氣體和化學品研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化已四十多年。公司總經(jīng)營產(chǎn)品種類200余種，全國范圍內(nèi)已形成“四基地六倉儲兩中心”的產(chǎn)業(yè)布局，是國家科技重大專項（02專項）-高純電子氣研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目的牽頭單位，中國集成電路材料聯(lián)盟副理事長單位。在電子特氣行業(yè)，已達到國內(nèi)第一，世界前十的行業(yè)地位。公司擁有核心自主知識產(chǎn)權(quán)42項，牽頭制定國家標準2項，行業(yè)標準1項，省部級以上科技獎20余項。公司主要產(chǎn)品三氟化氮、六氟化鎢、三氟甲磺酸的國內(nèi)市場占有率保持絕對領(lǐng)先，是20多家全球知名半導體企業(yè)的第一供應商。