鎳蝕刻劑 TFB 用于蒸發(fā)鎳薄膜上的標準鎳蝕刻劑

鎳蝕刻劑 TFG 用于蝕刻電沉積鎳薄膜的高純蝕刻劑。鎳蝕刻劑 TFG 與銅、砷化鎵以及其他III

-V化合物相匹配。
   用于蝕刻鎳、鎳-鐵合金和不銹鋼的高純蝕刻劑

特點 ·廉價經(jīng)濟

   ·與陽性、陰性光刻膠都相匹配
   ·線條輪廓清晰
   ·蝕刻速率均勻

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鎳蝕刻劑I型

說明

Transene 薄膜蝕刻劑(鎳 TFB 和鎳 TFG)是高純硝酸鹽基蝕刻劑用于蝕刻蒸發(fā)或

電鍍鎳膜，鎳蝕刻劑與陰、陽性光刻膠材料都具有良好匹配性。建議使用的光刻膠為 AZ-111，AZ-1350OH 和 KMER。鎳蝕劑用于蝕刻金、鎳、鎳鉻膜以制作電阻板。鎳蝕刻 劑 TFG 與銅相匹配。

性質(zhì)

應用 鎳蝕刻劑是浸泡型購來馬上可用的蝕刻劑，蝕刻速率通過操作溫度加以控制。鎳

通常在氧化鋁基板上夾于金和鎳鉻或鉻之間，對蒸發(fā)法或化學鍍制的鎳都適用。實際 蝕刻時要根據(jù)膜厚和操作溫度控制蝕刻時間，不過對于蒸發(fā)法鎳一般是 1 分鐘，而對 于化學鍍鎳是 4 分鐘。蝕刻過后應用水沖洗

鎳蝕刻劑I型

說明 I型鎳蝕刻劑是用于蝕刻鎳、鎳-鐵合金、鐵、氧化鐵以及某些種不銹鋼的高純

蝕刻劑，他也可以蝕刻銅。和廣范圍光刻膠包括 KPR、Dynachem、AZ、 Riston 以及 屏幕光刻膠，都相匹配。I型鎳蝕刻劑含有金屬螯合劑成份以優(yōu)化其性能。它不浸蝕 金膜。
性質(zhì)

應用
I型鎳蝕刻劑在較高溫度，一般是 30-60°C操作。為了得到均勻蝕刻效果，一般

要進行連續(xù)攪拌。I型鎳蝕刻劑可以蝕刻一系列金屬，金屬合金，和金屬氧化物材料。