4-乙酰氧基苯乙烯

4-乙酰氧基苯乙烯
中文別名： 對乙酰氧基苯乙烯
英文名稱： p-Acetoxy Styrene
CAS號： 2628-16-2
EINECS號： 434-600-2
分子式： C10H10O2
分子量： 162.1852
密度： 1.059g/cm3
熔點： 8℃
沸點： 260°C at 760 mmHg
閃點： 94°C
蒸汽壓： 0.0125mmHg at 25°C
4-乙酰氧基苯乙烯可用于合成作為光致抗蝕劑(光刻膠)主要成分的聚對羥基苯乙烯。聚對羥基苯乙烯系列的化學增幅型光致抗蝕劑是目前國際上主流的光致抗蝕劑產(chǎn)品，是用于處理光蝕刻集成電路、制造芯片的關(guān)鍵技術(shù)之一。光蝕刻技術(shù)由生產(chǎn)0.3～0.28μｍ線寬，發(fā)展到改用深紫外光（波長248nm）生產(chǎn)0.18μｍ線寬，更可通過超深紫外光（波長193nm）刻畫線寬達0.11μｍ的微細回路。248nm光刻膠通常采用聚對羥基苯乙烯衍生物為成膜樹脂，芳基碘鎓鹽或硫鎓鹽作為光致產(chǎn)酸劑，運用化學增幅技術(shù)，在光作用下光致酸發(fā)生劑釋放出酸，然后酸催化使聚合物交聯(lián)(負膠)或發(fā)生脫保反應(正膠)，從而使感光靈敏度極大地提高。