離子注入:第三代半導體產業(yè)中,是關鍵的離子注入氣體,在生產高性能半導體過程中(如離子注入、外延生長、摻雜、刻蝕、清洗)起到重要作用
碰摻雜:是常用的硼摻雜產品,用于硅離子布植過程,可增強硅的電學性質;應用于P型半導體生產中,生產出的芯片具有高集成、高密度、體積小、性能優(yōu)越等特點
其他領域:是顯示面板OLED的重要原料,也可以作為制備光纖預制件的原料,公司可生產5N級以上的超純三氟化硼-11B電子特氣
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