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直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備
  • 直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備

直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備

價格 39800
包裝 1臺
最小起訂量 1臺
發(fā)貨地 北京
更新日期 2023-10-17

產(chǎn)品詳情

中文名稱:直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備品牌: 鄭科探
產(chǎn)地: 鄭州產(chǎn)品類別: 濺射儀
外型尺寸: 240X435X390制造商: 鄭州科探
是否進口: 型號: KT-1650PVD
換熱面積: 直徑50MM設(shè)備高度: 435mm
用途: 鍍膜控制方式: 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
濺射電源: 直流濺射電源鍍膜功能: 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率: ≤1000W真空: 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa
真空測量: 皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa
2023-10-17 直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備 1臺/39800RMB 39800 鄭科探 鄭州 濺射儀

直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,7寸人機界面,自動手動模式切換控制,功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。

所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

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直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口



關(guān)鍵字: 金屬鍍膜;真空鍍膜;磁控濺射;SEM制樣;濺射儀;

公司簡介

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料設(shè)備創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實驗室 及科學(xué)院校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)和信任的品牌。 公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會為宗旨,積極設(shè)計開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻于教育和科學(xué),經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)專利10余項,為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師 同學(xué)強強聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!
成立日期 2015-09-01 (10年) 注冊資本 51
員工人數(shù) 1-10人 年營業(yè)額 ¥ 100萬以內(nèi)
主營行業(yè) 樣品處理設(shè)備,熱分析儀器,物理光學(xué)儀器,測厚儀,流量儀表 經(jīng)營模式 工廠
  • 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
非會員
  • 公司成立:10年
  • 注冊資本:51
  • 企業(yè)類型:批發(fā)業(yè)
  • 主營產(chǎn)品:小型濺射儀,探針臺,石英管封管機,氣體配比器
  • 公司地址:河南省鄭州市西三環(huán)大學(xué)科技園創(chuàng)新園6幢K座3層
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