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SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機
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SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機

價格 詢價
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最小起訂量 1臺
發(fā)貨地 上海
更新日期 2024-12-27

產(chǎn)品詳情

中文名稱:SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機產(chǎn)品類別: 清洗去膠系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機
2024-12-27 SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機 1臺/RMB 清洗去膠系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機

SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機概述:兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng),用于先進的無損兆聲清洗??梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

SWC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng),可以*節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力,提供了可控的化學(xué)試劑在整個基片上的分布。

通過聯(lián)合使用化學(xué)試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術(shù),系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升,從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去,而把回附的數(shù)量降到了z低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)勢,先進的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會有更大數(shù)量的顆?;馗?,并且因此需要更多的去除這些顆粒。

此外,NANO-MASTER的清洗機都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除,而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達到納米級的顆粒去除。根據(jù)不同的應(yīng)用,某些選配項將會進一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。

SWC系統(tǒng)能夠就地實現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干?!案蛇M干出” 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以z低的投資和購置成本來實現(xiàn)。NANO-MASTER清洗機的工藝處理時間可以在3-5分鐘內(nèi)完成,具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。

NANO-MASTER的技術(shù)也適用于清洗背部以及帶保護膜掩模版前面的對準標記,降低這些掩模版的不必要去除和重做保護膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準備表面以便再次覆膜。此外,帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無損并且對薄膜無滲漏。

SWC是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備,并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力,并可用于非常廣泛的基片。


SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機應(yīng)用:

  • 濕法刻蝕

  • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

  • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗

  • CMP處理后的晶圓片清洗

  • 晶圓框架上的切粒芯片清洗

  • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

  • 帶保護膜的分劃版清洗

  • 掩模版空白部位或接觸部位清洗

  • X射線及極紫外掩模版清洗

  • 光學(xué)鏡頭清洗

  • ITO涂覆的顯示面板清洗

  • 兆聲輔助的剝離工藝


特點:

  • 支持12”直徑的圓片或9”x9”方片

  • 獨立系統(tǒng)

  • 無損兆聲,試劑,毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干

  • 微處理機自動控制

  • 化學(xué)試劑滴膠單元

  • 溶劑與酸分離排廢

  • 熱氮

  • 30”D x 26”W 的占地面積

選配項:

  • 機械手自動上下載片

  • 掩模板或晶圓片夾具

  • 臭氧清洗

  • PVA軟毛刷清洗

  • 高壓DI清洗

  • 氮氣離子發(fā)生器


關(guān)鍵字: 進口濕法刻蝕系統(tǒng);兆聲無損晶圓清洗機;兆聲掩模版清洗機;兆聲無損硅片清洗機;兆聲無損清洗設(shè)備;單片晶圓清洗機;

公司簡介

那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸,香港,臺灣和澳門)的客戶,同時我們在中國大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室,提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。 那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國際領(lǐng)先的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。 自2001年Nano-Master開始設(shè)計開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全球薄膜設(shè)備的供應(yīng)商,已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點實驗室。 我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)
成立日期 2015-04-17 (10年) 注冊資本 100萬人民幣
員工人數(shù) 1-10人 年營業(yè)額 ¥ 1000萬-5000萬
主營行業(yè) 其他儀器耗材 經(jīng)營模式 定制
  • 那諾-馬斯特中國有限公司
非會員
  • 公司成立:10年
  • 注冊資本:100萬人民幣
  • 企業(yè)類型:私人股份有限公司
  • 主營產(chǎn)品:薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等
  • 公司地址:徐匯區(qū)虹梅南路126弄翡翠別墅23號
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SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機相關(guān)廠家報價

產(chǎn)品名稱 價格   公司名稱 報價日期
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