中文名稱(chēng):三甲基鎵中文同義詞:三甲基鎵(TMG);高純?nèi)谆?三甲基鎵;三甲基鎵;三甲基鎵TMGA英文名稱(chēng):TRIMETHYLGALLIUM英文同義詞:GALLIUMTRIMETHYL;TRIMETHYLGALLIUM;(CH3)3Ga;trimethyl-galliu;TMGa;Trimethylgallium,99+%;Trimethylgallium,elec.gr.(99.9999%-Ga)PURATREM;TRIMETHYLGALLIUM(III)CAS號(hào):1445-79-0分子式:C3H9Ga分子量:114.83EINECS號(hào):215-897-6相關(guān)類(lèi)別:中間體;化工原料;無(wú)機(jī)物;metalalkylMol文件:1445-79-0.mol三甲基鎵性質(zhì)熔點(diǎn)-15,8°C沸點(diǎn)55,7°C密度1,151g/cm3閃點(diǎn)-18°C形態(tài)liquid比重1.1151顏色colorless水解敏感性10:reactsextremelyrapidlywithmoistureandoxygen-maybepyrophoric-sealedsystemrequired敏感性moisturesensitiveInChIKeyXCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-NEPA化學(xué)物質(zhì)信息Trimethylgallium(1445-79-0)三甲基鎵用途與合成方法簡(jiǎn)介三甲基鎵在常溫常壓下為無(wú)色透明有毒液體。在空氣中易氧化，在室溫自燃，燃燒時(shí)發(fā)出金屬氧化物白煙。高溫時(shí)自行分解。它在已烷、庚烷等脂肪族飽和烴和甲苯、二甲苯等芳香族烴中以任何比例相溶。與水激烈反應(yīng)生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X，并放出甲烷氣。用途三甲基鎵可用于金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)，制備GaAs、AsGaAl等半導(dǎo)體化合物等，是制造發(fā)光二極管等電子元件的鎵源，也用于太陽(yáng)能電池的制造。應(yīng)用三甲基鎵（Ga(CH3)3，TMG）是MOCVD工藝技術(shù)生產(chǎn)光電材料如氮化鎵等的關(guān)鍵MO源原料，為MO源化合物中應(yīng)用最廣泛的金屬有機(jī)化合物。MO源，即金屬有機(jī)化合物，是光電半導(dǎo)體材料行業(yè)等領(lǐng)域的重要金屬來(lái)源，是MOCVD工藝（即金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積工藝）等工藝技術(shù)生產(chǎn)制備合成新型半導(dǎo)體光電化合物材料的基礎(chǔ)源材料。