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Alfa Chemistry 企業(yè)の連絡(luò)先情報(bào)

名前:Alfa Chemistry
電話番號:-
電子メール:Info@alfa-chemistry.com
國籍:United States
ウェブサイト:www.alfa-chemistry.com/
商品の合計(jì)數(shù):24072
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製品カタログ

Lanthanum Boride Sputtering Target六ほう化ランタン12008-21-8B6La
Cobalt Tungsten (Co-W) Alloy Sputtering Targets三テルル化二ガリウム12024-27-0GaTe
Copper Cobalt (Cu-Co) Alloy Sputtering Targets酸化ガリウム(Ⅲ)12024-21-4Ga2O3
Tungsten (W) Sputtering Targets硫化クロム（Ⅲ）12018-22-3Cr2S3
Lanthanum Carbonate powder炭酸ランタン587-26-8C3La2O9
Organic Pigment Red 53:1レーキレッドCBA5160-02-1C34H24BaCl2N4O8S2
Vanadium (V) Sputtering Targets12006-80-3BCr
Chalconeカルコン94-41-7C15H12O
Organic Pigment Red 123-ヒドロキシ-4-[(2-メチル-4-ニトロフェニル)アゾ]-N-(2-メチルフェニル)-2-ナフタレンカルボアミド6410-32-8C25H20N4O4
Tungsten Carbide (WC) Sputtering Targets12018-08-5CrSi*
Gold(III) chloride hydrateテトラクロロ金(Ⅲ)酸N水和物27988-77-8AuCl4H3O
Nickel(ii)perchlorate hexahydrate過塩素酸ニッケル（ＩＩ）?6水和物13520-61-1Cl2H12NiO14
Cerium Hexaboride六ほう化セリウム12008-02-5B6Ce
Gadolinium Nitride (GdN) Sputtering Targets12007-27-1B2Mo
Tantalum Diboride TaB2 Powderほう化タンタル12007-35-1B2Ta
Chromium Copper (Cr-Cu) Alloy Sputtering Targets銅(II)テルリド12019-23-7CuTe
Bismuth Tungstate Powder酸化ビスマスタングステン13595-87-4BiH2OW
Gallium Selenide Ga2Se3 Powder３セレン化２ガリウム12024-24-7Ga2Se3
Tungsten Titanium (W-Ti) Alloy Sputtering Targetsホウ化クロム（III）12006-79-0BCr
Tin (IV) Sulfide (SnS2) Sputtering Targetsすず酸バリウム12009-18-6BaH6OSn
Praseodymium Carbonate炭酸プラセオジム(III)14948-62-0C3O9Pr2
BOVINE COLOSTRUM POWDERラクトフェリン146897-68-9C141H224N46O29S3
Cesium Tellurite亜テルル酸ジセシウム15899-92-0Cs.1/2H2O3Te
Tantalum nitride (TaN)窒化タンタル, 99.5% (metals basis)12033-62-4NTa
Dysprosium Carbonate炭酸ジスプロシウム四水和物,3N538245-35-1C3H8Dy2O13
Potassium Tungstate Powderタングステン酸二カリウム7790-60-5KO4W-
Lead Titanate (PbTiO3) Sputtering Targets12006-99-4BMo2
Calcium Fluoride (CaF2) Infrared Crystalけい化クロム(CrSi2)12018-09-6CrSi2
Glycine Sodium Hydrateグリシンナトリウム6000-44-8C2H6NNaO2
Tantalum Silicide (Ta5Si3) Sputtering Targets12010-77-4Bi4O12Ti3
Nickel Silicide (NiSi2) Sputtering Targetsマンガン(II)テルリド12032-88-1MnTe
Copper Germanium (Cu-Ge) Alloy Sputtering Targetsゲルマニウム(II)スルフィド12025-32-0GeS
Lead Tungstate Powder
Iron Chromium (Fe-Cr) Alloy Sputtering Targets鉄-二けい素12022-99-0FeSi2
Rubidium Tungstate Powderタングステン酸ルビジウム13597-52-9O4Rb2W
Formamidine Acetateホルムアミジン酢酸塩3473-63-0C3H8N2O2
Yttrium Fluoride Sputtering Targetトリフルオロイットリウム13709-49-4F3Y
Titanium Carbonitride (TiCN) Sputtering Targetsけい化コバルト12017-12-8CoSi2
Copper (Cu) Sputtering Targets硫化ガリウム（II）12024-10-1GaH2S
Lithium Tungsten Powder二タングステン酸ジリチウム13568-45-1Li2O4W
Copper Tungstate Powderタングステン酸銅()13587-35-4CuH2OW
Tin IV Nitride Nano Powder13826-70-5H3NO3Sn
Yttrium Barium Cuprate Sputtering Targetイツトリウムバリウムオキシド107539-20-8BaCuH4OY
Ti3AlC2 (MAX) Phase Ceramic Material (400 mesh)チタンアルミカーバイド粉末196506-01-1CH7AlTi
Nickel Tungsten Tetraoxide Powderタングステン酸ニッケル(II)14177-51-6NiO4W
Zinc (Zn) Sputtering Targetsボラントリイルクロム(III)12007-38-4B3Cr5
Dysprosium Oxalate24670-07-3C6H20Dy2O22
MT032四フっ化樹脂9002-84-0(C2F4)x
Copper Sulfide (CuS) Sputtering Targetsボラントリイルニッケル(III)12007-01-1BNi2
Potassium carbonate炭酸カリウム584-08-7K2CO3
Organic Pigment Yellow 174,4'-ビス[[1-(2-メトキシフェニルアミノ)-1,3-ジオキソブタン-2-イル]アゾ]-3,3'-ジクロロ-1,1'-ビフェニル4531-49-1C34H30Cl2N6O6
Yttrium Carbonate炭酸イットリウム38245-39-5C3O9Y2
Neodymium Carbonate炭酸ネオジム一水和物38245-38-43CO3.2Nd
Gadolinium Zirconate (Gd2Zr2O3) Sputtering Targets12007-97-5B5Mo2
Tungsten Diboride WB2 Powderホウ化タングステン12007-09-9BW
Silver Sulfide Micro Spheres硫化銀21548-73-2Ag2S
Silver Bromide銀(I)ブロミド7785-23-1AgBr
Cadmium Tungstate Powderタングステン酸カドミウム7790-85-4CdO4W
Lanthanum Niobateニオブ酸ランタン12031-17-3H2LaNbO
Sodium Phosphotungstateりんタングステン酸ナトリウム n水和物51312-42-6Na3O40PW12
Aluminium Silicon Sputtering Target11145-27-0AlSi
Copper(i)selenideセレノ二銅(I)20405-64-5Cu2Se
Dysprosium Oxide (Dy2O3) Sputtering Targetsケイ化モリブデン；三ケイ化五モリブデン12033-40-8MoO6Si2
Zinc Silicate Nanopowderケイ酸亜鉛鉱68611-47-2Zn2SiO4
CAFFEIC ACIDカフェイン酸331-39-5C9H8O4
Neodymium Boride Sputtering Target八ほう化ネオジム12008-23-0B6Nd
Lutetium (Lu) Sputtering Targetsニトリロマンガン(III)12033-07-7H3MnN
Germanium Disulfide (GeS2) Sputtering Targetsボラントリイル鉄(III)12006-84-7BFe
Aluminum Oxide (Al2O3) Sputtering Targetsほう化バナジウム12007-37-3B2V
Hafnium borideほう化ハフニウム12007-23-7B2Hf-
Organic Pigment Yellow 134,4'-ビス[[1-(2,4-ジメチルフェニルアミノ)-1,3-ジオキソブタン-2-イル]アゾ]-3,3'-ジクロロ-1,1'-ビフェニル5102-83-0C36H34Cl2N6O4
Magnesium Boride (MgB2) Sputtering Targetsマグネシウムスルフィド12032-36-9MgS
Tungstate Iridium Powder15578-48-0O12W3Yb2
Viton Powder19011-17-0
Calcium sulfate Nanopowder硫酸カルシウム7778-18-9Ca.O4S
Tungsten Sulfide (WS2) Sputtering Targets二ほう化クロム12007-16-8B2Cr
Cobalt Silicide (CoSi2) Sputtering Targetsテルル化ガリウム12024-14-5GaH2Te
ALUMINUM TUNGSTATEタングステン酸アルミニウム15123-82-7Al2O12W3
Magnesium tungstate(vi)タングステン酸マグネシウム13573-11-0MgO4W
D-Glucosamine 6-Phosphate Hydrate2-アミノ-2-デオキシ-D-グルコース6-りん酸3616-42-0C6H14NO8P
Ferrous Sulphate Exsiccated (Dried)硫酸鉄(II)7720-78-7FeO4S
Tellurium Acidテルル酸7803-68-1H6O6Te
Dysprosium III acetylacetonateアセチルアセトナトジスプロシウム(III)水和物14637-88-8C15H21DyO6
Polycyclohexylenedimethylene Terephthalate24936-69-4
Silver Tungstate Powderタングステン酸二銀(I)13465-93-9AgH2OW
Tantalum boride12007-07-7BTa
Molybdenum Rhenium (Mo-Re) Alloy Sputtering Targetsセレン化ニオビウム12034-77-4NbSe2
Barium Titanyl Oxalate Nanoparticles14263-62-8C4H2BaO10Ti
Palladium (Pd) Sputtering Targetsテルロ二銀(I)12002-99-2Ag2Te
Cesium Tungstate Nanoparticlesタングステン酸ジセシウム13587-19-4Cs2O4W
Thallium Ethoxide Powderタリウム(I)エトキシド20398-06-5C2H5OTl
Glucosamine Sulphate Powder91674-26-9C6H13NO8S
Chromium Doped Silicon Monoxide (Cr-SiO) Sputtering Targetsテルロ二銅(I)12019-52-2Cu2Te
Cobalt Ferrite (CFO) Sputtering Targetsゲルマニウム(II)テルリド12025-39-7GeTe
Ketosulfone3-(4-メシルフェニルアセチル)-6-メチルピリジン221615-75-4C15H15NO3S
Organic Pigment Yellow 122,2'-[(3,3'-ジクロロ-1,1'-ビフェニル-4,4'-ジイル)ビス(アゾ)]ビス(3-オキソ-N-フェニルブタンアミド)6358-85-6C32H26Cl2N6O4
Organic Pigment Red 8N-(4-クロロフェニル)-3-ヒドロキシ-4-[(2-メチル-5-ニトロフェニル)アゾ]-2-ナフタレンカルボアミド6410-30-6C24H17ClN4O4
Zinc Bromide Powder臭化亜鉛7699-45-8Br2Zn
Iron Carbide Fe3C Powder炭化三鉄12011-67-5CH4Fe3
Indium III Nitride Powder20738-97-8
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