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[6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物)

[6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物) price.
  • ¥22700 - ¥532900
  • 化學(xué)名: [6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物)
  • 英語名: (6,6)-PHENYL C71 BUTYRIC ACID METHYL ESTER, 99% (MIXTURE OF ISOMERS)
  • 別名:[6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物);[6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物) [有機(jī)エレクトロニクス用];[6,6]-PHENYL C71 BUTYRIC ACID METHYL ESTER
  • CAS番號(hào): 609771-63-3
  • 分子式: C82H14O2
  • 分子量: 1031.01
  • EINECS:
  • MDL Number:MFCD09842750
8物価
選択條件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 東京化成工業(yè)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 50mg
  • 100mg
  • 250mg
  • 500mg
  • 1g
  • 2g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01LMTLT-S923
  • 製品説明
  • 英語製品説明PC71BM [(6,6)-Phenyl C71 butyric acid methyl ester], mixture of isomers
  • 包裝単位250mg
  • 価格¥65100
  • 更新しました2020-09-21
  • 購(gòu)入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01LMTLT-S923
  • 製品説明
  • 英語製品説明PC71BM
  • 包裝単位500mg
  • 価格¥93700
  • 更新しました2020-09-21
  • 購(gòu)入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01LMTLT-S923
  • 製品説明
  • 英語製品説明PC71BM
  • 包裝単位1g
  • 価格¥280400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01LMTLT-S923
  • 製品説明
  • 英語製品説明PC71BM . PC70BM [(6,6)-Phenyl C71 butyric acid methyl ester, mixture of isomers]
  • 包裝単位2g
  • 価格¥532900
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
  • 生産者東京化成工業(yè)
  • 製品番號(hào)M2550
  • 製品説明[6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物) >98.0%(HPLC)
  • 英語製品説明[6,6]-Phenyl-C71-butyric Acid Methyl Ester (mixture of isomers) >98.0%(HPLC)
  • 包裝単位50mg
  • 価格¥22700
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
  • 生産者東京化成工業(yè)
  • 製品番號(hào)P2683
  • 製品説明[6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物) [有機(jī)エレクトロニクス用] >99.0%(HPLC)
  • 英語製品説明[6,6]-Phenyl-C71-butyric Acid Methyl Ester (mixture of isomers) [for organic electronics] >99.0%(HPLC)
  • 包裝単位100mg
  • 価格¥65000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)684465
  • 製品説明[6,6]-Phenyl C71 butyric acid methyl ester 99%
  • 英語製品説明[6,6]-Phenyl C71 butyric acid methyl ester, mixture of isomers 99%
  • 包裝単位100mg
  • 価格¥75225
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)684465
  • 製品説明[6,6]-Phenyl C71 butyric acid methyl ester 99%
  • 英語製品説明[6,6]-Phenyl C71 butyric acid methyl ester, mixture of isomers 99%
  • 包裝単位500mg
  • 価格¥181000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
生産者 製品番號(hào) 製品説明 包裝単位 価格 更新時(shí)間 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01LMTLT-S923
PC71BM [(6,6)-Phenyl C71 butyric acid methyl ester], mixture of isomers
250mg ¥65100 2020-09-21 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01LMTLT-S923
PC71BM
500mg ¥93700 2020-09-21 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01LMTLT-S923
PC71BM
1g ¥280400 2024-03-01 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01LMTLT-S923
PC71BM . PC70BM [(6,6)-Phenyl C71 butyric acid methyl ester, mixture of isomers]
2g ¥532900 2024-03-01 購(gòu)入
東京化成工業(yè) M2550 [6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物) >98.0%(HPLC)
[6,6]-Phenyl-C71-butyric Acid Methyl Ester (mixture of isomers) >98.0%(HPLC)
50mg ¥22700 2024-03-01 購(gòu)入
東京化成工業(yè) P2683 [6,6]-フェニル-C71-酪酸メチル (異性體混合物) [有機(jī)エレクトロニクス用] >99.0%(HPLC)
[6,6]-Phenyl-C71-butyric Acid Methyl Ester (mixture of isomers) [for organic electronics] >99.0%(HPLC)
100mg ¥65000 2024-03-01 購(gòu)入
Sigma-Aldrich Japan 684465 [6,6]-Phenyl C71 butyric acid methyl ester 99%
[6,6]-Phenyl C71 butyric acid methyl ester, mixture of isomers 99%
100mg ¥75225 2024-03-01 購(gòu)入
Sigma-Aldrich Japan 684465 [6,6]-Phenyl C71 butyric acid methyl ester 99%
[6,6]-Phenyl C71 butyric acid methyl ester, mixture of isomers 99%
500mg ¥181000 2024-03-01 購(gòu)入

プロパティ

融點(diǎn)  :min 0.015 cm2/Vs (HMDS Si/SiO2 substrate)[muFET]
比重(密度)  :2.67±0.1 g/cm3(Predicted)
溶解性 :chlorobenzene: soluble
外見  :powder to crystal
色 :Black
EPAの化學(xué)物質(zhì)情報(bào) :

安全情報(bào)

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報(bào):
コード 危険有害性情報(bào) 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強(qiáng)い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標(biāo)的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書き:
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P280 保護(hù)手袋/保護(hù)衣/保護(hù)眼鏡/保護(hù)面を著用するこ と。
P302+P352 皮膚に付著した場(chǎng)合:多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場(chǎng)合:水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場(chǎng)合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P321 特別な処置が必要である(このラベルの... を見よ)。
P332+P313 皮膚刺激が生じた場(chǎng)合:醫(yī)師の診斷/手當(dāng)てを受けるこ と。
P362 汚染された衣類を脫ぎ、再使用す場(chǎng)合には洗濯をすること。

説明

Solublen-channel organic semiconductor. Used in organic OFETsand solar cells.

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