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ChemicalBook > 製品カタログ > 無機(jī)化學(xué) > 無機(jī)塩 > 硫化物や硫酸塩 > 硫酸ガリウム(Ⅲ)水和物

硫酸ガリウム(Ⅲ)水和物

硫酸ガリウム(Ⅲ)水和物 price.
  • ￥18100 - ￥294500
  • 化學(xué)名: 硫酸ガリウム(Ⅲ)水和物
  • 英語名: GALLIUM(III) SULFATE HYDRATE
  • 別名:硫酸ガリウム(Ⅲ)水和物;硫酸ガリウム(III)水和物;硫酸ガリウム(III)水和物 (99.999%-Ga) PURATREM
  • CAS番號: 13780-42-2
  • 分子式: Ga2H2O13S3
  • 分子量: 445.65
  • EINECS:628-535-0
  • MDL Number:MFCD00149725
7物価
選択條件：
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • Sigma-Aldrich Japan
  • 純正化學(xué)株式會(huì)社
パッケージ
  • 5g
  • 10g
  • 25g
  • 50g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號W01SRM93-3126
  • 製品説明硫酸ガリウム(III)水和物 (99.999%-Ga) PURATREM
  • 英語製品説明Gallium(III) sulfate hydrate (99.999%-Ga) PURATREM
  • 包裝単位5g
  • 価格￥46400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號W01ALF011152
  • 製品説明硫酸ガリウム(III)水和物
  • 英語製品説明Gallium(III) sulfate hydrate, Puratronic?, 99.999% (metals basis)
  • 包裝単位10g
  • 価格￥81300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號W01ALF011152
  • 製品説明硫酸ガリウム(III)水和物
  • 英語製品説明Gallium(III) sulfate hydrate, Puratronic?, 99.999% (metals basis)
  • 包裝単位50g
  • 価格￥294500
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號463892
  • 製品説明 ≥99.99% trace metals basis
  • 英語製品説明Gallium(III) sulfate hydrate ≥99.99% trace metals basis
  • 包裝単位5g
  • 価格￥18100
  • 更新しました2023-06-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號463892
  • 製品説明 ≥99.99% trace metals basis
  • 英語製品説明Gallium(III) sulfate hydrate ≥99.99% trace metals basis
  • 包裝単位25g
  • 価格￥58400
  • 更新しました2023-06-01
  • 購入
  • 生産者純正化學(xué)株式會(huì)社
  • 製品番號83155-1610
  • 製品説明硫酸ガリウム（Ⅲ）水和物
  • 英語製品説明Gallium(Ⅲ) sulfate hydrate
  • 包裝単位25g
  • 価格￥18500
  • 更新しました2022-04-26
  • 購入
  • 生産者純正化學(xué)株式會(huì)社
  • 製品番號83155-1610
  • 製品説明硫酸ガリウム（Ⅲ）水和物
  • 英語製品説明Gallium(Ⅲ) sulfate hydrate
  • 包裝単位25g
  • 価格￥21300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番號 製品説明 包裝単位 価格 更新時(shí)間 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01SRM93-3126 硫酸ガリウム(III)水和物 (99.999%-Ga) PURATREM
Gallium(III) sulfate hydrate (99.999%-Ga) PURATREM 		5g ￥46400 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01ALF011152 硫酸ガリウム(III)水和物
Gallium(III) sulfate hydrate, Puratronic?, 99.999% (metals basis) 		10g ￥81300 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01ALF011152 硫酸ガリウム(III)水和物
Gallium(III) sulfate hydrate, Puratronic?, 99.999% (metals basis) 		50g ￥294500 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 463892 ≥99.99% trace metals basis
Gallium(III) sulfate hydrate ≥99.99% trace metals basis		 5g ￥18100 2023-06-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 463892 ≥99.99% trace metals basis
Gallium(III) sulfate hydrate ≥99.99% trace metals basis		 25g ￥58400 2023-06-01 購入
純正化學(xué)株式會(huì)社 83155-1610 硫酸ガリウム（Ⅲ）水和物
Gallium(Ⅲ) sulfate hydrate 		25g ￥18500 2022-04-26 購入
純正化學(xué)株式會(huì)社 83155-1610 硫酸ガリウム（Ⅲ）水和物
Gallium(Ⅲ) sulfate hydrate 		25g ￥21300 2024-03-01 購入

プロパティ

融點(diǎn)  :105-110°C
比重(密度)  :3,86 g/cm3
溶解性 :soluble in H2O, ethanol
外見  :crystal
色 :white
比重 :3.86
水溶解度  :Slightly soluble in water and acid.
Sensitive  :Hygroscopic
安定性： :hygroscopic
CAS データベース :13780-42-2

安全情報(bào)

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報(bào):
コード 危険有害性情報(bào) 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強(qiáng)い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標(biāo)的臓器毒性、単回暴露； 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書き:
P261 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避ける こと。
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P271 屋外または換気の良い場所でのみ使用すること。
P280 保護(hù)手袋/保護(hù)衣/保護(hù)眼鏡/保護(hù)面を著用するこ と。
P302+P352 皮膚に付著した場合：多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合：水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

説明

Gallium(III) sulfate hydrate is used in the preparation of other gallium compounds such as gallium oxide. It is supported on silica gel act as a solid acid catalyst, which is employed as a heterogeneous catalyst for the esterification of p-hydroxybenzoic acid and heptanol to give n-heptyl p-hydroxybenzoate. On reacting with strong acid cation ion exchange resin, it exhibits excellent catalytic activity, which is used for synthesizing amyl hexanoate.